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    首頁薄膜生長設備高真空鍍膜機 > VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    • 產品名稱: VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
    • 上架時間: 2017-04-28
    • 產品編號: 03050101
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    產品簡介:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

     

    產品型號

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    產品型號

    VTC-600-2HD

    安裝條件

    本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

    2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

    3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥

    4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

    5、通風裝置:需要

    主要特點

    1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

    3、體積小,操作簡便。

    技術參數

    1、電源電壓:220V  50Hz

    2、功率:<2KW(不含真空泵)

    3、極限真空度:9.0×10-4Pa

    4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)

    5、靶槍數量:2個(可選配其他數量)

    6、靶槍冷卻方式:水冷

    7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

    8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源)

    9、載樣臺:Ø140mm

    10、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調

    11、工作氣體:Ar等惰性氣體

    12、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

    產品規格

    1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm

    2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm

    3、真空室規格:φ300×300mm

    4、重量:160kg

    標準配件

    1

    直流電源控制系統

    1套

    2

    射頻電源控制系統

    1套

    3

    膜厚監測儀系統

    1套

    4

    分子泵(德國進口)

    1臺

    5

    冷水機

    1臺

    6

    冷卻水管(Ø6mm)

    4根

    可選配件

    金、銦、銀、白金等各種靶材

    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀操作指導

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